如今，單片機IC芯片的制造不斷追求更小化，以達到降低能耗、提高性能的目的。為了解決這一問題，新的芯片制造工藝設計應運而生，單片機IC芯片內部平面的結構變成了3D。運用單片機IC芯片設計圖加上設計好的加工工藝流程，加工過程中需要運用刻蝕機在晶圓上把復雜的3D圖形一層一層“堆疊”起來，實現(xiàn)單片機IC芯片的更小化。

芯片，本質上是一片載有集成電路（IC：Integrated circuit）的半導體元件，而IC設計就是在芯片上設計電路，用來實現(xiàn)邏輯功能以滿足客戶的特定需求，可以說，好的IC設計是后續(xù)芯片制造的基礎。

我們先來說一下單片機IC芯片的從設計到制造的大致流程。

先是單片機IC芯片的設計，包含電路設計—設計版圖—制作光罩；接著是晶圓生產(chǎn)，由晶圓裸片—利用光罩光刻—得到晶圓—測試后的晶圓；到芯片封裝，包含晶圓切割—芯片焊線—芯片封裝；最后是芯片測試，包含芯片成品測試—得到芯片成品。

所謂單片機IC芯片制程，就是晶體管中柵極的最小寬度，即柵長的數(shù)值，也就是我們經(jīng)常看到的XX nm

單片機IC芯片除了要達到芯片設計的要求外，單片機IC芯片的制造不斷追求更小化，以達到降低能耗、提高性能的目的。而芯片的性能與電路中晶體管數(shù)量息息相關，單位面積上晶體管的數(shù)量又與芯片的制程緊密聯(lián)系。

　　隨著技術的不斷升級，柵極寬度越來越窄，當制程逼近20納米時，柵極對電流的控制能力會急劇下降，出現(xiàn)“電流泄露”問題；當制程逼近10納米后，漏電問題就會變得十分嚴重。而漏電率如果不能降低，CPU 整體性能和功耗控制就會變得十分不理想。

　　為了解決這一問題，新的芯片制造工藝設計應運而生，典型的代表就是鰭式場效應晶體管 (FinFET：Fin Field-Effect Transistor)。這種新的晶體管設計使得單片機IC芯片內部平面的結構變成了3D。

柵極形狀的改制使得接觸面積增大了，這在減少柵極寬度的同時能夠降低漏電率，并且讓晶體管的空間利用率大大增加。

現(xiàn)在，有了IC設計圖，也有方法減小更小制程帶來的漏電問題，接下來要做的，就是設計好加工的工藝流程，也就是在晶圓上把復雜的3D圖形一層一層“堆疊”起來。

　在芯片的實際制造過程中，步驟會因為不同的材料和工藝而有所差異，不過大體上皆采用這樣的類似工藝過程，于是就需要用到光刻機和刻蝕機。

首先，在晶圓表面沉積一層薄膜，緊接著再涂敷上光刻膠（光阻），這時候光刻機會按照設計好的IC電路對應制造的掩膜版（光罩）將光束打在不要的部分上，這一部分的光刻膠就會變質然后被化學藥劑清洗除去。

這之后，刻蝕機要按照光刻機“描繪”出來的線路進行更深入的微觀雕刻，刻出溝槽或接觸孔，然后，光刻膠被除去。

為了保證每次往上“堆疊”新電路的過程都能順利準確地進行，刻蝕機的加工精度必須非常高，要達到納米級。以16納米制程的CPU來說，刻蝕過程的加工尺度為普通人頭發(fā)絲的五千分之一，而加工的精度和重復性的誤差更需要控制在這一數(shù)值的十分之一以下。

綜上所述，刻蝕機是推進單片機IC芯片開發(fā)趨向更小化，降低能耗，提高性能的重要設備之一。