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單片機(jī)產(chǎn)業(yè)芯資訊2.5nm三維晶體管—單片機(jī)開(kāi)發(fā)方案公司

更新時(shí)間: 2019-01-07
閱讀量:1516

  深圳單片機(jī)開(kāi)發(fā)方案公司英銳恩分享芯資訊—2.5nm三維晶體管已經(jīng)研制出。單片機(jī)芯片創(chuàng)新突破的步伐是在一直推進(jìn)的,先前是單片機(jī)7nm工藝,再到單片機(jī)芯片界先行者的試產(chǎn)5nm,而現(xiàn)在推出的單片機(jī)芯片晶體管再次減少一半,達(dá)到2.5nm寬。

           

  麻省理工學(xué)院和科羅拉多大學(xué)的工程師近日成功研發(fā)出新的微加工技術(shù),可用于生產(chǎn)有史以來(lái)最小的3D晶體管,尺寸是目前主流商用產(chǎn)品的三分之一。而研究人員開(kāi)發(fā)的一些新晶體管再次將其減半,根據(jù)測(cè)量創(chuàng)紀(jì)錄的達(dá)到2.5納米寬。

  為了制造它們,該團(tuán)隊(duì)在新進(jìn)開(kāi)發(fā)的微加工工藝熱原子層蝕刻(thermal ALE)基礎(chǔ)上進(jìn)行了改進(jìn)。首先他們將稱(chēng)之為銦鎵砷(indium gallium arsenide)的合金半導(dǎo)體材料暴露于氟化氫(hydrogen fluoride)上,用于在基板表面上形成薄薄的金屬氟化物層。

  每次刻蝕僅0.2納米,當(dāng)重復(fù)數(shù)百次過(guò)程時(shí),蝕刻精度可以達(dá)到令人驚嘆的地步。但這種新技術(shù)更精確,而且能生產(chǎn)出更高質(zhì)量的晶體管。此外它重新利用了一種用于在材料上沉積原子層的普通微加工工具,這意味著它可以快速集成。這將使計(jì)算機(jī)芯片具有更多的晶體管和更好的性能。

           

  單片機(jī)芯片工藝再次取得突破,深圳單片機(jī)開(kāi)發(fā)方案公司英銳恩倍感欣喜,預(yù)示著單片機(jī)芯片產(chǎn)業(yè)朝著高集成高精密工藝又邁進(jìn)一步。

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